Sensofar 微觀世界的探索先鋒

產(chǎn)品簡介

Sensofar 微觀世界的探索先鋒
在微觀測量領(lǐng)域，Sensofar S neox 三維共聚焦白光干涉光學(xué)輪廓儀以其創(chuàng)新融合的技術(shù)，成為探索微觀世界的有力工具。

產(chǎn)品型號：S neox

更新時間：2026-01-05

廠商性質(zhì)：代理商

訪問量：258

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產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

三維光學(xué)輪廓儀

BRUKER白光干涉光學(xué)輪廓儀 SENSOFAR共聚焦白光干涉儀儀光新型共聚焦白光干涉儀 SENSOFAR 3D光學(xué)輪廓儀 SENSOFAR結(jié)構(gòu)光三維輪廓儀 SENSOFAR平面度測量干涉儀 ZYGO三維光學(xué)輪廓儀

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在微觀測量領(lǐng)域，Sensofar S neox 三維共聚焦白光干涉光學(xué)輪廓儀以其創(chuàng)新融合的技術(shù)，成為探索微觀世界的有力工具。Sensofar 微觀世界的探索先鋒

產(chǎn)品細節(jié)

S neox 設(shè)計緊湊，機身小巧精致，易于安置在各類實驗室或生產(chǎn)車間的臺面上。其操作界面簡潔直觀，通過清晰的顯示屏與便捷的控制按鍵，用戶能迅速完成測量模式選擇、參數(shù)調(diào)整等操作。樣品臺采用高精度的平移與旋轉(zhuǎn)機構(gòu)，可靈活精準(zhǔn)地定位樣品，確保測量區(qū)域準(zhǔn)確無誤。設(shè)備的光學(xué)部分配備了可調(diào)節(jié)的遮光罩，有效減少外界光線干擾，保證測量環(huán)境的穩(wěn)定性。

產(chǎn)品性能

這款輪廓儀將共聚焦、干涉和多焦面疊加技術(shù)集于一身。共聚焦技術(shù)提供高橫向分辨率，可清晰呈現(xiàn)樣品表面細節(jié)，尤其適合測量高斜率表面；干涉技術(shù)能實現(xiàn)亞埃分辨率，在測量高度光滑表面時表現(xiàn)出色；Ai 多焦面疊加技術(shù)則可快速測量大粗糙表面形狀。測量過程中，數(shù)據(jù)采集連貫穩(wěn)定，能適應(yīng)從粗糙到超光滑等各種表面特性的樣品測量。

用材講究

S neox 在選材上十分用心。核心光學(xué)部件采用高透光率、低色散的優(yōu)質(zhì)光學(xué)玻璃，確保光線傳輸穩(wěn)定，成像清晰準(zhǔn)確。設(shè)備內(nèi)部的機械傳動部件選用耐磨、高強度的合金材料，保障長期使用過程中的運動精度與穩(wěn)定性。外殼采用堅固且具有一定抗腐蝕能力的材質(zhì)，有效保護內(nèi)部精密元件。

參數(shù)詳情

參數(shù)項	具體數(shù)值
橫向分辨率	最高可達 0.10μm
縱向分辨率	共聚焦模式下可達 300 - 8 納米，干涉模式下亞納米級
測量范圍	PSI 模式下縱向 20μm，ePSI 模式下 100μm，VSI 模式下 10mm，共聚焦 10mm，多焦面疊加 37mm
視場范圍	多種物鏡搭配，最大可達 7016x5280μm
掃描速度	共聚焦圖像幀率 12.5 幀 / 秒，垂直 3D 掃描 8 層 / 秒，干涉掃描速度 50fps

廣泛用途

在半導(dǎo)體制造中，可精確測量芯片表面的微小結(jié)構(gòu)、刻蝕深度等，助力提升芯片性能與生產(chǎn)質(zhì)量；在光學(xué)元件生產(chǎn)里，能檢測透鏡、反射鏡等的表面瑕疵與面形誤差，保障光學(xué)成像質(zhì)量；在材料科學(xué)研究中，用于分析薄膜厚度、表面微觀結(jié)構(gòu)，為新材料研發(fā)提供關(guān)鍵數(shù)據(jù)支持。

使用說明

使用前，將設(shè)備放置在平穩(wěn)、無振動的工作臺上，檢查電源連接及各部件是否正常。安裝樣品時，根據(jù)樣品形狀與尺寸，利用樣品臺的調(diào)節(jié)機構(gòu)將其穩(wěn)固固定，并確保表面清潔無雜質(zhì)。通過操作界面選擇合適的測量模式與參數(shù)，如物鏡倍數(shù)、掃描范圍等。測量過程中，避免觸碰設(shè)備，防止干擾測量。測量結(jié)束后，及時清理樣品臺，定期對光學(xué)鏡頭進行清潔與保養(yǎng)，以維持設(shè)備的良好性能。憑借技術(shù)融合、出色的性能與廣泛的適用性，Sensofar S neox 成為微觀測量領(lǐng)域的，為眾多行業(yè)的精密檢測與研究工作提供可靠支持。Sensofar 微觀世界的探索先鋒

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